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正向截止状态和雪崩击穿状态

稳定的开关状态是:
正向截止状态和雪崩击穿状态当集电极-发射极的电压VDS 为正,且栅极-源极电压VGS 小于栅极-源极的开启电压VGS(th)时,在漏极和源极之间仅有一个很小的漏极-源极残余电流IDSS。这个残余电流IDSS 随着电压VDS 的上升在开始阶段仅略微增加,当VDS 大于某一特定的最高许可的漏极-源极电压VDSS 时,MOSFET 的pin 结(p+区/ n-漂移区/n+外延生长区)就会出现雪崩效应(击穿电压V(BR)DSS)。从物理的角度来解释,击穿电压V(BR)DSS 对应了MOSFET 结构中npn 寄生双极晶体管的击穿电压VCER。寄生双极晶体管是由n+源区(发射极)/p+区 (基极)/n-漂移区/n+外延生长层-漏区(集电极)构成的。
在雪崩现象时,由集电极-基极二极管产生的放大电流可以通过开通的双极晶体管,造成MOSFET 的损坏。基极和发射极因为金属化发射极几乎被短路,它们之间只有p+区一个横向的电阻。通过各种设计措施,例如,减小MOSFET 的尺寸,均质单元阵列,低阻抗的p 区,优化的边缘结构,采用高水平的单晶等,可以实现MOSFET 的每个单元的穿透电流很小,它既满足了材料的要求,又不会使双极晶体管开通。在数据文件中,对这种抗雪崩的MOSFET 芯片,给出了单脉冲或者连续周期的雪崩能量EA(通过芯片的最高可靠工作温度来限制)。
当几个并联的MOSFET 在功率模块中,绝对的均衡是无法保证的,它只能对单一芯片工作时,保证在EA能可靠工作。
导通状态 (第1 象限)
在漏极-源极电压VDS 为正,并漏极电流ID 也为正时,此时特性曲线包含两个部分:-主动工作区当栅极-源极电压VGS 略大于门限电压VGS(th)时,由于沟道电流的饱和效应,沟道会出现一个相对较高的电压(特性曲线的水平线)。此时漏极电流ID 会受到电压VGS 的控制。
我们用正向转移率gfs 来描述图2.4.5b)所示的转移特性。它的定义是:
gfs =  ID /  VGS = ID / (VGS –VGS(th))
转移特性在线性放大区域内的转移率随漏极电流ID 和漏极-源极的电压VDS 增加而增加,并随着芯片的温度上升而减少。在由多个并联MOSFET 芯片构成的功率模块中,这一区域只是在开关过程中被经过。模块是不会稳定工作在这个区域的,因为电压VGS(th)会随着温度的上升而下降,这样,芯片间的很微小的差异就能造成温度失衡。
-欧姆曲线区
在开关的导通状态对应着欧姆曲线区(特性曲线很陡上升部分),这时电流ID 只是由外部电路所决定。导通特性是通过开通电阻RDS(on),既漏极-源极的电压差VDS 同漏极电流ID 的比值,来确定的。开通电阻RDS(on)同栅极-源极电压VGS 和芯片的温度有关系,当MOSFET 的工作温度在25°C 到 125°C 之间,它的开通电阻RDS(on)会增加一倍。
反向特性(第3 象限)
MOSFET 的反向运行特性是指VGS < VGS(th) 时,表现出一个类似二极管的特性曲线(见图2.4.17)。它的特性是由在MOSFET 结构中,在源极和漏极pn 结形成的寄生二极管造成的(逆向二极管)。这样MOSFET 就成为一个双向电流的元器件,当反向时由二极管确定MOSFET 的反向导通特性。
a)在关闭通道(双向电流流动) b)在控制的通道和VDS在小的负值
c)在控制的通道和VDS在大的负值
这个双极性反向二极管可以运行到由MOSFET 所给定极限值。在实际应用中,这个二极管会:
- 导致较大的通态损耗,这个损耗同MOSFET 的损耗一起必须被热散发出去。
- 较差的关断特性和较低的dv/dt 极限值。这就限制了它作为硬性开关的应用范围。
如图2.4.8 所示,只要栅极-源极大于开启电压,MOSFET 的沟道也能在漏极-源极电压为负值时,被控制到导通状态。
如果漏极-源极电压,例如,通过并联一个肖特基二极管,被保持在反向二极管的开启电压以下,则漏极-源极之间的反向电流为单极性的电子流(多数载流子)。它的关断特性相似MOSFET 的特性,反向电流同电压-VDS 和 VGS 有关(图 2.4.18b)。在图2.4.18c 中,当沟道受到导通的双极式反向二极管(漏极-源极电压高压门限电压)控制时,则会出现组合电流运行情况。与简单并联一个二极管的MOSFET 相比,因为被注入的载流子还可以横向扩散,从而使得MOSFET 的导电能力增加,导致了MOSFET 的通态压降降低。这个特性使MOSFET 在低压电力系统被用到,比如用MOSFET 制造的同步直流整流器来代替二极管直流整流器。当MOSFET 在作为输出电压小于15V 的开关部件,在反向二极管导通时,它的通态压降只有几十毫安伏,而相比传统的二极管整流器的几百毫安伏,极大的提高了效率。

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